Технологический маршрут изготовления простейшегоМДП(вентиля с самосовмещенным затвором.
1. Выращивание тонкого подзатворного диэлектрика.
2. Создание p+-охраны.
3. Локальное окисление.
4. Формирование поликремниевого затвора.
5. Ионное n+-легирование через тонкий диэлектрик.
6. Нанесение ФСС и вскрытие контактных окон.
7. Металлизация алюминием.
8. Пассивация.